AR qoplamali yoki qoplamasiz nozik tekis optik oynalar

Optik oynalar optik tizim yoki sezgir elektronika va tashqi muhit o'rtasida himoya qiladi.Tizimda ishlatiladigan to'lqin uzunliklarini uzatuvchi oynani tanlash muhimdir.Bundan tashqari, substrat materiali dasturning atrof-muhit sharoitlariga bardosh berishi kerak.Windows lazer chiqishini atrof-muhit ta'siridan himoya qilish va nurli namuna olish ilovalari uchun foydalidir.Biz Windows-ni har qanday dasturga bo'lgan ehtiyojni qondirish uchun turli xil substratlar, o'lchamlar va qalinliklarda taklif qilamiz.

Paralight Optics keng turdagi lazer va sanoat ilovalarida foydalanish uchun turli substrat materiallaridan tayyorlangan standart va yuqori aniqlikdagi optik tekis oynalarni taklif etadi.Bizning substratlarimizga N-BK7, UV eritilgan kremniy (UVFS), safir, kaltsiy ftorid, magniy ftorid, kaliy bromid, infrasil, sink selenid, kremniy, germaniy yoki bariy ftorid kiradi.Bizning lazer oynalarimiz keng tarqalgan ishlatiladigan lazer to'lqin uzunliklari va ixtiyoriy takoz atrofida joylashgan to'lqin uzunligiga xos AR qoplamasiga ega, bizning nozik derazalarimiz esa 0 ° dan 30 gacha bo'lgan tushish burchaklari (AOI) uchun yaxshi optik ishlashni ta'minlaydigan keng polosali AR qoplamali yoki bo'lmasdan taklif etiladi. °.

Bu erda biz kaltsiy ftoridli tekis oynani sanab o'tamiz.Kaltsiy ftorid past assimilyatsiya koeffitsientiga va yuqori zarar eshigiga ega, bu derazalarni bo'sh joy lazerlari bilan ishlatish uchun yaxshi tanlov qiladi.Bizning kaltsiy ftoridimiz (CaF₂) Yuqori aniqlikdagi tekis oynalar qoplamasiz yoki keng polosali aks ettiruvchi qoplamali.Qoplanmagan oynalar ultrabinafsha (180 nm) dan infraqizil (8 mkm) gacha yuqori o'tkazuvchanlikni ta'minlaydi.AR-qoplangan derazalar har ikki tomonda aks ettirishga qarshi qoplamaga ega bo'lib, belgilangan to'lqin uzunligi oralig'ida 1,65 - 3,0 mikron oralig'ida o'tkazuvchanlikni oshiradi.Past assimilyatsiya koeffitsienti va yuqori zarar eshigini hisobga olgan holda, qoplamasiz kaltsiy ftorid kristalli eksimer lazerlar bilan foydalanish uchun mashhur tanlovdir.CaF₂derazalar odatda kriyojenik sovutilgan termal tasvirlash tizimlarida ham qo'llaniladi.Iltimos, havolalaringiz uchun quyidagi grafiklarni tekshiring.

Xususiyatlari:

Materiallar opsiyalari:

Quyidagi tekis oynalar tanloviga qarang

To'lqin uzunligi diapazoni:

talablar sifatida

Qoplama variantlari:

Qoplanmagan yoki AR qoplamali so'rov sifatida mavjud

Maxsus parametrlar:

Turli dizaynlar, o'lchamlar va qalinligi mavjud

Umumiy spetsifikatsiyalar:

pro-related-ico — Ushbu chap shakl sizning murojaatlaringiz uchun Windows tanlovining umumiy qo'llanmasidir.

Parametrlar

Diapazonlar va bardoshlik

Substrat materiali

N-BK7 (CDGM H-K9L), UV eritilgan silika (JGS 1) yoki boshqa IR materiallari
Turi

Standart tekis oyna (dumaloq, kvadrat va boshqalar)
Hajmi

Buyurtma asosida tayyorlangan
Hajmi tolerantligi

Odatda: +0,00/-0,20mm |Aniqlik: +0,00/-0,10 mm
Qalinligi

Buyurtma asosida tayyorlangan
Qalinligi bardoshliligi

Odatda: +/-0,20 mm |Aniqlik: +/-0,10 mm
Diafragmani tozalash

>90%
Parallellik

Qoplanmagan: ≤ 10 yoy sek |AR bilan qoplangan: ≤ 30 yoy sek
Sirt sifati (chizish - qazish)

Aniqlik: 40-20 |Yuqori aniqlik: 20-10
Sirt tekisligi @ 633 nm

Odatda: ≤ l/4 |Aniqlik: ≤ l/10
633 nm da uzatilgan to'lqinli front xatosi

Qoplanmagan: ≤ l/10 25 mm |AR bilan qoplangan: 25 mm uchun ≤ l/8
Chamfer

Himoyalangan:< 0,5 mm x 45°
Qoplama

Dar band: Ravg0° AOI da har bir sirt uchun < 0,25%
Keng tarmoqli: Ravg0° AOI da har bir sirt uchun < 0,5%
Lazerning shikastlanish chegarasi

UVFS: >10 J/sm²(20ns, 20Hz, @1064nm)
Boshqa substrat: >5 J/sm^{2(20ns, 20Hz, @1064nm)}