• V-estalduta-Laser-Windows-Flat-1

V-estaldura ziridun laser bidez babesteko leihoak

Leiho optikoek sistema optiko edo elektronika sentikor baten eta kanpoko ingurunearen arteko babesa eskaintzen dute.Garrantzitsua da sisteman erabiltzen diren uhin-luzerak transmititzen dituen leiho bat hautatzea.Gainera, substratu-materialak aplikazioaren ingurumen-baldintzak jasateko gai izan behar du.Leihoak substratu, tamaina eta lodiera ugaritan eskaintzen dira, edozein aplikazio beharri erantzuteko.

Paralight Optics-ek V estalitako laser lerroko leihoak eskaintzen ditu laser irteera babestea eskatzen duten aplikazioetarako, argi galdua eta islak gutxitzen dituzten bitartean.Optikaren alde bakoitzak laser uhin-luzera arrunt baten inguruan zentratzen den AR estaldura du.Leiho hauek kalte-atalase handiak dituzte (>15J/cm2), materiala prozesatzeko laserren aurrean erabiltzen dira, laser optika material beroen tantatik babesteko.Ziri bidezko laser leihoak ere eskaintzen ditugu.

V-estaldura geruza anitzeko, islatzearen aurkako, film mehe estaldura dielektriko bat da, uhin-luzera-banda estu batean islapen minimoa lortzeko diseinatua.Erreflektantzia bizkor igotzen da minimo horren bi aldeetan, eta islapen kurbari "V" forma emanez.Banda zabaleko AR estaldurekin alderatuta, V-estaldurek islapen txikiagoa lortzen dute banda zabalera estuago batean zehaztutako AOI-n erabiltzen direnean.mesedez begiratu hurrengo grafikoa estalduraren menpekotasun angeluarra erakusten duena zure erreferentzietarako.

ikono-irratia

Ezaugarriak:

Materiala:

N-BK7 edo UVFS

Dimentsio aukerak:

Tamaina eta lodiera pertsonalizatuetan eskuragarri

Estaldura aukerak:

Lasing uhin-luzera arrunten inguruan zentratutako estaldurak (AR) estaldurak

Laser kalteak kuantifikatzeko proba:

Laserraren kalte-atalase handiak Laserekin erabiltzeko

ikono-ezaugarri

Zehaztapen komunak:

Parametroak

Tarteak eta Perdoiak

  • Substratua Materiala

    N-BK7 edo UV Fused Silice

  • Mota

    V-Estalkia Laser Babesteko Leihoa

  • Ziri Angelua

    30 +/- 10 arku min

  • Tamaina

    Enkarguz

  • Tamainaren tolerantzia

    +0,00/-0,20 mm

  • Lodiera

    Enkarguz

  • Lodiera-tolerantzia

    +/-%0,2

  • Irekidura garbia

    > %80

  • Paralelismoa

    Tipikoa: ≤ 1 arkmin |Zehaztasun handia: ≤ 5 arku segundo

  • Gainazalaren kalitatea (scratch-dig)

    Ohikoa: 60-40 |Zehaztasun handia: 20-10

  • Azalera lautasuna @ 633 nm

    ≤ λ/20 erdiko Ø 10mm baino gehiago |≤ λ/10 irekidura argi osoan zehar

  • Transmititutako Wavefront Error @ 633 nm

    ≤ λ tipikoa |Doitasun handia ≤ λ/10

  • Estaldura

    AR estaldurak, Ravg< % 0,5 0° ± 5° AOI-tan

  • Laser Kalteen Atalasea (UVFSrako)

    > 15 J/cm2(20ns, 20Hz, @1064nm)

grafikoak-img

Grafikoak

Laser leiho hauetako AR estaldurak laser uhin-luzera arruntekin erabiltzeko bereziki diseinatuta daude eta Ravg eskaintzen dute.<% 0,5 zehaztutako uhin-luzera-tarteetan eta AOI = 0° ± 5°-rako.
Eskuineko grafikoak estaldura espezifiko batek UV fusionatutako silizearen substratuan nola jokatzen duen erakusten du hainbat angelutan.
Beste AR estaldurei buruzko informazio gehiago lortzeko, esate baterako, 400 - 700 nm, 523 - 532 nm edo 610 - 860 nm, 1047 - 1064 nm N-BK7 edo 261 - 266 nm-ko uhin-luzera tarteak, 350 - 266 nm, 3502 - 41 -1080 nm UV fusionatutako silizerako, jar zaitez gurekin harremanetan xehetasunetarako.