탈분극
플레이트 빔스플리터
비편광 빔 스플리터는 들어오는 빛의 S 및 P 편광 상태를 변경하지 않도록 설계되었지만 여전히 편광에 민감합니다. 이는 비편광 빔 스플리터에 무작위로 편광된 입력 빛이 주어지면 여전히 일부 편광 효과가 있음을 의미합니다. .그러나 우리의 탈편광 빔 스플리터는 입사 빔의 편광, S-pol과 P-pol의 반사 및 투과 차이에 민감하지 않습니다.5% 미만이거나 특정 설계 파장에서 S-pol과 P-pol의 반사 및 투과에 차이가 전혀 없습니다.참고자료는 다음 그래프를 확인해주세요.
Paralight Optics는 광범위한 광학 빔 스플리터를 제공합니다.당사의 플레이트 빔 스플리터는 빔 분할 비율을 결정하는 코팅된 전면을 갖고 있으며, 후면은 고스팅 및 간섭 효과를 최소화하기 위해 웨지형 및 AR 코팅 처리되어 있습니다.당사의 큐브 빔 스플리터는 편광 또는 비편광 모델로 제공됩니다.펠리클 빔스플리터는 빔 오프셋과 고스팅을 제거하면서 뛰어난 파면 투과 특성을 제공합니다.이색성 빔분할기는 파장에 따라 달라지는 빔분할 특성을 나타냅니다.서로 다른 색상의 레이저 빔을 결합/분할하는 데 유용합니다.
특징:
코팅:
모든 유전체 코팅
광학 성능:
T/R = 50:50, |Rs-Rp|< 5%
레이저 손상 정량화:
높은 손상 임계값
디자인 옵션:
맞춤형 디자인 가능
공통 사양:
참조 도면
탈분극 플레이트 빔스플리터
참고: 굴절률이 1.5이고 AOI가 45°인 기판의 경우 빔 이동 거리(d)는 왼쪽 방정식을 사용하여 대략적으로 계산할 수 있습니다.
양극화 관계: |Rs-Rp|< 5%, |Ts-Tp|특정 설계 파장에서 < 5%.
매개변수
범위 및 공차
-
유형
탈분극 플레이트 빔스플리터
-
치수 공차
정밀도: +0.00/-0.20mm |고정밀도: +0.00/-0.1mm
-
두께 공차
정밀도: +/-0.20mm |고정밀도: +/-0.1mm
-
표면 품질(스크래치 발굴)
일반: 60-40 |정밀도: 40-20
-
표면 평탄도(플라노 측)
< λ/4 @632.8nm
-
빔 편차
< 3분
-
모따기
보호됨< 0.5mm X 45°
-
분할 비율(R:T) 공차
± 5%
-
양극화 관계
|Rs-Rp|< 5%(45° AOI)
-
조리개 지우기
> 90%
-
코팅(AOI=45°)
전면에 탈분극 빔스플리터 유전체 코팅, 후면에 AR 코팅.
-
손상 임계값
>3J/cm2, 20ns, 20Hz, @1064nm
그래프
Wedged Plate Beamsplitter(다중 반사를 분리하기 위한 5° 웨지 각도), Dichroic Plate Beamsplitter(Longpass, Shortpass, Multi-band 등을 포함하여 파장에 따라 달라지는 빔 분할 특성 표시)와 같은 다른 유형의 Plate Beamsplitter에 대한 자세한 내용은 더 넓은 파장 범위를 포괄할 수 있는 편광판 빔 스플리터, 펠리클(색수차 및 고스트 이미지가 없고 우수한 파면 투과 특성을 제공하며 간섭계 응용 분야에 가장 유용함) 또는 폴카 도트 빔 스플리터(성능은 각도에 따라 다름), 당사에 문의하세요. 자세한 내용은.
50:50 45° AOI에서 633nm의 감극 플레이트 빔 스플리터
50:50 45° AOI에서 780nm에서 편광판 빔 스플리터
