레이저 라인
유전체 거울
Laser Line 유전체 미러는 높은 Damage Threshold를 제공하는 특수 코팅으로 제작되어 다양한 고출력 CW 또는 펄스 레이저 소스와 함께 사용하기에 적합합니다.당사의 레이저 라인 미러는 Nd:YAG, Ar-Ion, Kr-Ion 및 CO2 레이저에서 일반적으로 생성되는 고강도 빔을 견딜 수 있도록 설계되었습니다.
Paralight Optics는 260-270nm, 350-360nm, 527-532nm, 633-660nm, 780nm, 1047-1064nm의 파장 범위에 맞게 설계된 Laser Line Dielectric Mirror를 제공합니다.참고용으로 레이저 라인 유전체 거울에 대한 다음 몇 가지 그래프를 확인하세요.
특징:
재료 준수:
RoHS 준수
코팅 최적화:
한쪽 표면에 유전체 HR 코팅, 무작위 분극의 경우 R>99.5%.후면을 연마하거나 광택 처리함
광학 성능:
높은 반사율, R>99.5%
레이저 손상 임계값:
높은 Damage Threshold 제공
공통 사양:
참고: 미세하게 연마된 뒷면은 반투명 처리되어 거울 전면에서 반사되지 않는 빛을 확산시킵니다.
매개변수
범위 및 공차
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기판 재료
N-BK7 (CDGM H-K9L)
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유형
Nd: YAG 레이저 고조파 분리기
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크기
맞춤 제작
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크기 공차
+0.00/-0.20mm
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두께
맞춤 제작
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두께 공차
+/-0.2mm
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모따기
보호< 0.5mm x 45°
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병행
1아르크민 이하
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표면 품질(스크래치 파기)
60-40
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표면 평탄도 @ 632.8nm
25mm 범위당 < λ/10 비코팅
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조리개 지우기
>90%
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코팅
한쪽 표면에 유전체 HR 코팅, 무작위 분극의 경우 R>99.5%.후면을 연마하거나 광택 처리함
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레이저 손상 임계값
5J/cm2(20ns, 20Hz, @1.064μm)
그래프
이러한 반사율 플롯은 0° AOL에서 설계 파장에 대한 높은 반사율을 보여줍니다.
0° AOL에서 527-532nm 레이저 라인 유전체 미러에 대한 반사율 곡선, Unpol.
0° AOL에서 780nm 레이저 라인 유전체 미러에 대한 반사율 곡선, Unpol.
