デュアルレーザーライン
誘電体ミラー
レーザー ライン ミラーは、高い損傷閾値を提供する特殊なコーティングで製造されているため、さまざまな高出力 CW またはパルス レーザー ソースでの使用に適しています。これらは、Nd:YAG、Ar イオン、Kr イオン、および CO2 レーザーによって通常生成される高強度ビームに耐えるように設計されています。
Paralight Optics は、99% を超える高い平均反射率と高い損傷閾値を備えたデュアル レーザー ライン誘電体ミラーを提供しています。当社では、カスタムのミラー サイズ、形状 (平面ミラー、球面ミラー、非球面ミラーなど)、基板材料、およびコーティングを製造できます。
特徴：
準拠材質:
RoHS対応
コーティングの最適化:
片面に誘電体 HR コーティング、ランダム分極の R>99.5%。裏面研削または研磨
光学性能:
高反射率、R>99% @ 2 波長
レーザー損傷のしきい値:
高いダメージ閾値の提供
共通仕様:
注: 細かく研磨された背面はつや消しになっており、ミラーの前面で反射されなかった光を拡散します。
パラメーター
範囲と許容差
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基板材料
N-BK7（CDGM H-K9L）
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タイプ
デュアルレーザーライン誘電体ミラー
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サイズ
カスタムメイド
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サイズ許容差
+0.00/-0.20mm
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厚さ
カスタムメイド
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厚さの許容差
+/-0.2mm
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面取り
保護< 0.5mm x 45°
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平行度
≤1分角
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表面品質 (スクラッチ-ディグ)
60-40
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表面平坦度 @ 632.8 nm
< λ/10 (コーティングなし、25mm レンジあたり)
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クリアアパーチャ
>90%
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コーティング
誘電体 HR コーティング、R>99%、裏面研磨または研磨
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レーザーダメージ閾値
5J/cm2(20ns、20Hz、@1.064μm)
グラフ
350～360nmと527～532nm、527～532nmと1047～1064nm、633～660と1047～1064nmのデュアルレーザーラインの反射率のこれらのプロットは、それぞれ0°AOLでの設計波長に対する高い反射率を示しています。
0° AOL、Unpol での 527 ～ 532nm および 1047 ～ 1064nm デュアル レーザー ライン誘電体ミラーの反射率曲線。
