เส้นเลเซอร์
กระจกอิเล็กทริก
กระจกไดอิเล็กตริก Laser Line ประดิษฐ์ขึ้นด้วยการเคลือบแบบพิเศษซึ่งมีขีดจำกัดความเสียหายสูง ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานกับแหล่งกำเนิดเลเซอร์ CW หรือพัลซิ่งกำลังสูงหลากหลายประเภทกระจกเส้นเลเซอร์ของเราได้รับการออกแบบให้ทนทานต่อลำแสงความเข้มสูงซึ่งโดยทั่วไปแล้วจะผลิตโดยเลเซอร์ Nd:YAG, Ar-Ion, Kr-Ion และ CO2
Paralight Optics นำเสนอกระจกอิเล็กทริกแบบเลเซอร์ไลน์ที่ออกแบบมาสำหรับช่วงความยาวคลื่น 260-270nm, 350-360nm, 527-532nm, 633-660nm, 780nm, 1047-1064nmตรวจสอบกราฟต่างๆ ต่อไปนี้เพื่อหากระจกอิเล็กทริกแบบเลเซอร์ไลน์เพื่อเป็นข้อมูลอ้างอิงของคุณ
คุณสมบัติ:
สอดคล้องกับวัสดุ:
เป็นไปตามข้อกำหนด RoHS
การเพิ่มประสิทธิภาพการเคลือบ:
การเคลือบ Dielectric HR บนพื้นผิวเดียว R>99.5% สำหรับโพลาไรเซชันแบบสุ่มพื้นผิวด้านหลังหรือขัดเงา
ประสิทธิภาพแสง:
การสะท้อนแสงสูง, R>99.5%
เกณฑ์ความเสียหายของเลเซอร์:
ให้เกณฑ์ความเสียหายสูง
ข้อมูลจำเพาะทั่วไป:
หมายเหตุ: พื้นผิวด้านหลังที่ละเอียดจะมีน้ำค้างแข็ง และจะกระจายแสงที่ไม่ได้สะท้อนจากพื้นผิวด้านหน้าของกระจก
พารามิเตอร์
ช่วงและความคลาดเคลื่อน
-
วัสดุพื้นผิว
N-BK7 (ซีดีจีเอ็ม H-K9L)
-
พิมพ์
Nd: YAG เครื่องแยกฮาร์มอนิกด้วยเลเซอร์
-
ขนาด
สั่งทำพิเศษ
-
ความอดทนขนาด
+0.00/-0.20มม
-
ความหนา
สั่งทำพิเศษ
-
ความทนทานต่อความหนา
+/-0.2 มม
-
แชมเฟอร์
ป้องกัน< 0.5 มม. x 45°
-
ความเท่าเทียม
≤1 อาร์มิน
-
คุณภาพพื้นผิว (scratch-dig)
60-40
-
ความเรียบของพื้นผิว @ 632.8 นาโนเมตร
< แล/10 ไม่เคลือบต่อช่วง 25 มม
-
รูรับแสงที่ชัดเจน
>90%
-
การเคลือบผิว
การเคลือบ Dielectric HR บนพื้นผิวเดียว R>99.5% สำหรับโพลาไรเซชันแบบสุ่มพื้นผิวด้านหลังหรือขัดเงา
-
เกณฑ์ความเสียหายของเลเซอร์
5 เจ/ซม2(20 ns, 20 เฮิร์ต, @1.064 ไมโครเมตร)
กราฟ
แผนภาพการสะท้อนแสงเหล่านี้แสดงให้เห็นว่ามีการสะท้อนแสงสูงสำหรับความยาวคลื่นการออกแบบที่ 0° AOL
เส้นโค้งการสะท้อนแสงสำหรับกระจกไดอิเล็กตริกของเส้นเลเซอร์ 527-532nm ที่ 0° AOL, Unpol
เส้นโค้งการสะท้อนแสงสำหรับกระจกไดอิเล็กทริกของเส้นเลเซอร์ 780 นาโนเมตรที่ 0° AOL, Unpol
