光学镀膜能力

概述

光学的基本目的是以某种方式控制光以使其发挥作用,光学镀膜在增强光学控制和光学系统性能方面发挥着重要作用,通过修改光学基材的反射率、透射率和吸收特性来增强光学控制和光学系统的性能。使它们更加高效和实用。Paralight Optics 的光学镀膜部门为世界各地的客户提供最先进的内部镀膜,我们的全套设施使我们能够生产大量定制镀膜光学器件,以满足各种客户的需求。

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特征

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材料:大批量镀膜能力从 248nm 到 >40μm。

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从紫外到长波红外光谱范围的定制涂层设计。

03

抗反射、高反射、滤光片、偏振、分束器和金属设计。

04

高激光损伤阈值 (LDT) 和超快激光涂层。

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具有高硬度、耐刮擦和耐腐蚀的类金刚石碳涂层。

涂层能力

Paralight Optics 最先进的内部光学镀膜部门为全球客户提供镀膜能力,范围从金属镜面镀膜、类金刚石纸盒镀膜、减反射 (AR) 镀膜到更广泛的镀膜范围我们的内部镀膜设施中的定制光学镀膜。我们在设计和生产适用于整个紫外 (UV)、可见光 (VIS) 和红外 (IR) 光谱区域的涂料方面拥有广泛的涂层能力和专业知识。所有光学器件均在 1000 级洁净室环境中经过精心清洁、镀膜和检查,并符合客户指定的环境、热和耐用性要求。

涂层设计

镀膜材料是薄层金属、氧化物、稀土或类金刚石纸盒镀膜的组合,光学镀膜的性能取决于层数、厚度、它们之间的折射率差以及光学特性的基材。

Paralight Optics 拥有一系列薄膜建模工具,可用于设计、表征和优化单个涂层性能的许多方面。我们的工程师拥有丰富的经验和专业知识,可以在产品的设计阶段为您提供帮助,我们使用 TFCalc 和 Optilayer 等软件包来设计涂层,考虑您的最终产量、性能要求和成本需求,为您组装整体供应解决方案你的申请。开发稳定的涂层工艺需要几周的时间,使用分光光度计或光谱仪来检查涂层运行是否符合规格。

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在光学镀膜的规格中需要传递一些相关的信息,基本信息是基材类型、波长或感兴趣的波长范围、透射或反射要求、入射角、入射角范围。入射率、偏振要求、通光孔径以及其他补充要求,例如环境耐久性要求、激光损伤要求、见证样品要求以及标记和包装的其他特殊要求。应考虑这些信息,以确保成品光学器件完全满足您的规格。一旦涂层配方最终确定,就可以作为生产过程的一部分应用于光学器件。

涂料生产设备

Paralight Optics 有六个镀膜室,我们有能力对大量光学器件进行镀膜。我们最先进的光学镀膜设备包括:

1000 级洁净室和 100 级层流室,最大限度地减少污染

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离子辅助电子束(蒸发)沉积

离子束辅助沉积 (IAD) 使用相同的热和电子束方法来蒸发涂层材料,但添加了离子源以促进材料在较低温度 (20 - 100 °C) 下成核和生长。离子源可以对温度敏感的基材进行涂层。该工艺还可以形成更致密的涂层,在潮湿和干燥的环境条件下对光谱偏移不太敏感。

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肠易激综合征沉积

我们的离子束溅射 (IBS) 沉积室是我们涂层工具系列中的最新成员。该工艺使用高能射频等离子体源溅射涂层材料并将其沉积在基材上,同时另一个射频离子源(辅助源)在沉积过程中提供 IAD 功能。溅射机理可以表征为来自离子源的电离气体分子与靶材料的原子之间的动量传递。这类似于母球打破台球架,只是在分子尺度上,并且还有几个球在比赛中。

肠易激综合征的优点
更好的过程控制
更广泛的涂层设计选择
提高表面质量并减少散射
减少光谱偏移
在一个周期内获得更厚的涂层

热沉积和电子束(蒸发)沉积

我们利用电子束和热蒸发以及离子辅助。热电子束 (E-Beam) 沉积使用电阻热负载源或电子束源来蒸发一系列材料,例如过渡金属氧化物(例如 TiO2、Ta2O5、HfO2、Nb2O5、ZrO2)、金属卤化物 (MgF2) 、YF3) 或 SiO2 在高真空室中。这种类型的工艺必须在高温 (200 - 250 °C) 下完成,以实现对基材的良好附着力以及最终涂层可接受的材料性能。

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类金刚石碳涂层的化学气相沉积

Paralight Optics 拥有悠久的类金刚石碳 (DLC) 涂层历史,其硬度、抗应力和耐腐蚀性与天然钻石相似,使其成为恶劣环境的理想选择。DLC 涂层(如锗、硅)具有较高的红外 (IR) 透射率和较小的摩擦系数,从而提高了耐磨性和润滑性。它们由纳米复合碳制成,通常用于国防应用和其他暴露于潜在划痕、应力和污染的系统。我们的 DLC 涂层符合所有军用耐久性测试标准。

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计量学

Paralight Optics 采用一系列测试来确保定制光学镀膜的指定性能并满足您的应用需求。涂层计量设备包含:
分光光度计
显微镜
薄膜分析仪
ZYGO 表面粗糙度测量
用于 GDD 测量的白光干涉仪
自动耐磨磨损测试仪的耐久性

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